Стандартът „SEMI F104-2020 Метод за изпитване за оценка на приноса на частиците на компоненти, използвани в системи за разпределение на ултрачиста вода и течни химикали“, разработен в рамките на Международната програма за полупроводниково оборудване и материали (SEMI), описва техническите спецификации и методите за изпитване на компоненти за оценка и сравнение на приноса на частиците към потока на флуид с ултрачиста вода (UPW).
Ограниченията на съществуващата метрология на частиците правят контролирането на частиците в напредналата полупроводникова индустрия изключително предизвикателство. В тази връзка SEMI F104 е ценен индустриален стандарт за контрол на частиците в критични компоненти. Този стандарт е напълно преработен, за да се обърне внимание на допустимия принос на частици от компоненти, използвани при работа с ултрачисти течности, използвани в обработката на полупроводници. Последните актуализации са променили процедурата, за да се съобразят с по-големи компоненти, добавили са процедури за изпитване, специфични за по-големи компоненти, и са добавили определени стойности за допустимия принос на частици. Значителната разлика между обема и повърхността на компонентите при сравняване на малки и големи компоненти означава, че трябва да се прилагат различни протоколи за изпитване. Следователно стандартът включва специфични изисквания за скоростите на потока, използвани в редица части, които ще бъдат тествани. Допълнителни разяснения на съществуващите процедури за изпитване и добавянето на нови процедури са включени в преработения стандарт, заедно със определени стойности за компоненти в целия диапазон на размерите.
Двата метода за изпитване, дефинирани в този стандарт за оценка на приноса на частиците, са:
Тези методи за изпитване се отнасят за компоненти на системи за течни химикали и ултрачиста вода, предназначени за употреба в устройства за производство на полупроводници и спомагателно оборудване. Този стандарт описва методи за измерване на замърсяване с частици от компоненти, когато се използва ултрачиста вода като тестова среда. За целите на този стандарт, ултрачистата вода се определя като вода, която отговаря на минималните изисквания, посочени в този стандарт. Тези методи използват in situ течен оптичен брояч на частици за измерване на производителността.
Продуктите, произведени за употреба в приложения с ултрависока чистота, като например полупроводниковата или фармацевтичната промишленост, трябва да гарантират, че по време на обработката не навлизат замърсители. Клапаните, използвани в тези услуги, трябва да осигуряват най-високи нива на чистота и производителност. Тестването за анализ на следи се извършва в независими, акредитирани тестови лаборатории, използващи промивки с ултрачиста вода. Резултатите от тестовете трябва да показват, че клапаните отделят значително по-малко прахови частици от максимално допустимите граници в стандарта SEMI F104, потвърждавайки тяхната пригодност за ултрачисти приложения.
Накратко, стандартът SEMI F104 е от съществено значение в полупроводниковата и високотехнологичната индустрия, където дори микроскопично замърсяване може да доведе до значителни повреди на продукта или загуба на производителност. Този стандарт помага да се гарантира, че материалите, използвани в чистите помещения, са подходящи и отговарят на строгите изисквания на тези ултрачисти среди.
Този стандарт предоставя стандартизирана рамка за рефериране на данни от тестове за материали, използвани в конструкцията на чисти помещения. Той се фокусира върху чистотата, отделянето на газове, образуването на частици и химическата съвместимост. Целта е да се подпомогне изборът на материали, които минимизират рисковете от замърсяване и поддържат надеждни процеси за производство на полупроводници.
Стандартът SEMI F104 очертава ключовите свойства и данни, които трябва да се вземат предвид при оценката на материалите за употреба в чисти помещения. Те включват:
Стандартът SEMI F104 е приложим за различни строителни материали, използвани в чисти помещения и мини-среди, включително:
Всеки от тези материали трябва да бъде оценен за съответствие с изискванията за чисти помещения, като се използват признати протоколи за изпитване.
Стандартът SEMI F104 е от решаващо значение за полупроводниковата и високотехнологичната производствена индустрия поради следните ключови причини:
Този стандарт стандартизира начина, по който се оценяват материалите, намалявайки риска от замърсяване, което би могло да причини дефекти или повреди в микрочиповете и чиповете.
Тази консистентност поддържа надеждна работа и намалява възможността за въвеждане на несъвместими или нестандартни материали.
Този стандарт помага на производителите да отговарят на все по-строгите стандарти за качество, като допринася за надеждността на процесите и по-високите нива на добив.
Това намалява несигурността и гарантира, че всички заинтересовани страни разбират необходимите спецификации за производителност и чистота.
Чрез позоваване на този стандарт, производителите могат да изграждат системи за чисти помещения, които отговарят на по-широки регулаторни и индустриални изисквания.
В резултат на това, стандартът SEMI F104 играе жизненоважна роля във високопрецизните индустрии, където целостта на чистите помещения е неоспорима. Той помага за защитата на чувствителни производствени среди, осигурява постоянна производителност на материалите и в крайна сметка подпомага производството на висококачествени и надеждни полупроводникови устройства.
Нашата организация, която от години подкрепя бизнеса във всички сектори чрез широк спектър от дейности по тестване, измерване, анализ и оценка, разполага със силен екип от служители, които следят отблизо световните развития в науката и технологиите и непрекъснато се усъвършенстват. В този контекст, ние също така предоставяме услуги за тестване в съответствие със стандарта SEMI F104-2020 за „Метод за изпитване за оценка на приноса на частици от компоненти, използвани в системи за разпределение на ултрачиста вода и течни химикали“.
Можете да ни помолите да попълним формуляра, за да получим среща, да получим по-подробна информация или да поискаме оценка.
