Phương pháp thử nghiệm tiêu chuẩn ASTM B799-95 về độ xốp trong lớp phủ vàng và Palladium với hơi axit sunfuric/Sulfur Dioxide

Trong tiêu chuẩn "Phương pháp thử nghiệm tiêu chuẩn ASTM B799-95 về độ xốp trong lớp phủ vàng và palladi với hơi axit sulfuric / sulfur dioxide" do Hiệp hội Thử nghiệm và Vật liệu Hoa Kỳ (ASTM) công bố, người ta xác định rằng độ xốp của lớp phủ vàng và paladi , đặc biệt là mạ điện và kim loại mạ được sử dụng trong các tiếp điểm điện, được xác định Thiết bị và phương pháp thử để xác định.

Phương pháp thử nghiệm này được thiết kế để cho biết mức độ xốp nhỏ hơn hay cao hơn giá trị mà người dùng, theo kinh nghiệm, cho là có thể chấp nhận được đối với ứng dụng dự kiến.

Có các phương pháp kiểm tra độ xốp khác trong thực tế. Ví dụ: “Phương pháp thử tiêu chuẩn ASTM B735-16 về độ xốp của lớp phủ vàng trên nền kim loại bằng hơi axit nitric”, “Phương pháp thử tiêu chuẩn ASTM B741-95 về độ xốp trong lớp phủ vàng trên nền kim loại bằng phương pháp điện phân giấy”, “ASTM B798- 95 Phương pháp thử tiêu chuẩn gel về độ xốp trong lớp phủ vàng hoặc palladium trên nền kim loại bằng phương pháp điện phân khối” và “ASTM B809-95 Moist tiêu chuẩn phương pháp thử nghiệm tiêu chuẩn về độ xốp trong lớp phủ kim loại có hơi lưu huỳnh (lưu huỳnh nở hoa). “Hướng dẫn tiêu chuẩn B765-03 để lựa chọn các phép thử độ xốp và khuyết tật tổng thể cho lớp mạ điện và lớp phủ kim loại liên quan” cũng đã được xuất bản liên quan đến việc lựa chọn các phép thử độ xốp cho lớp mạ điện và lớp phủ kim loại liên quan.

Nhiều thuật ngữ được sử dụng trong phương pháp thử nghiệm này được định nghĩa trong tiêu chuẩn “Thuật ngữ tiêu chuẩn ASTM B542-13 cho các tiếp điểm điện và cách sử dụng chúng” và các thuật ngữ liên quan đến lớp phủ kim loại được định nghĩa trong tiêu chuẩn “Thuật ngữ tiêu chuẩn ASTM B374-21 cho mạ điện”. Áp dụng các định nghĩa cụ thể sau đây cho tiêu chuẩn này:

• Sản phẩm ăn mòn là sản phẩm phản ứng do các lỗ nhô ra hoặc bám vào bề mặt lớp phủ sau khi thử nghiệm bằng hơi.
• Diện tích đo (hoặc bề mặt quan trọng) là bề mặt được kiểm tra sự hiện diện của độ xốp. Các bề mặt hoặc diện tích đo đáng kể của bộ phận cần kiểm tra phải được chỉ rõ trên bản vẽ của bộ phận đó hoặc bằng cách cung cấp các mẫu được đánh dấu thích hợp. Đối với mục đích đặc điểm kỹ thuật, các bề mặt hoặc khu vực đo quan trọng thường được định nghĩa là các phần của bề mặt quan trọng đối với khả năng sử dụng hoặc chức năng của bộ phận, chẳng hạn như đặc tính tiếp xúc hoặc có thể là nguồn sản phẩm ăn mòn hoặc màng vết bẩn cản trở chức năng của phần đó.
• Lớp phủ kim loại bao gồm lớp phủ hoặc các lớp kim loại khác được áp dụng cho chất nền. Lớp phủ có thể bao gồm một lớp kim loại đơn lẻ hoặc sự kết hợp của các lớp kim loại.
• Độ xốp là sự hiện diện của bất kỳ sự gián đoạn, vết nứt hoặc lỗ nào trên lớp phủ làm lộ ra lớp kim loại bên dưới khác.
• Tấm dưới cùng là lớp phủ kim loại giữa lớp dưới cùng và lớp trên cùng hoặc các lớp. Độ dày của tấm phụ thường lớn hơn 0,8 µm (30 µin).

Phương pháp thử sử dụng axit sulfuric đậm đặc, phát ra khí sulfur dioxide theo phản ứng cân bằng. Thời gian phơi sáng có thể thay đổi tùy thuộc vào mức độ xốp được tiếp xúc. Phản ứng của khí với kim loại cơ bản dễ bị ăn mòn trong các vùng lỗ rỗng tạo ra các sản phẩm phản ứng xuất hiện dưới dạng các đốm rời rạc trên bề mặt vàng hoặc paladi. Các điểm riêng lẻ được đếm với sự trợ giúp của kính lúp hoặc kính hiển vi soi nổi công suất thấp.

Phương pháp thử nghiệm này phù hợp với các lớp phủ có chứa 95% vàng hoặc palađi trở lên trên các chất nền bao gồm đồng, niken và hợp kim của chúng thường được sử dụng trong các tiếp xúc điện.

Thử nghiệm độ xốp này bao gồm các phản ứng ăn mòn trong đó sản phẩm xác định các khu vực bị lỗi trong lớp phủ. Do tính chất hóa học và đặc tính của các sản phẩm này có thể không giống với các đặc tính có trong môi trường tự nhiên hoặc dịch vụ nên phương pháp thử nghiệm này không được khuyến nghị để ước tính hiệu suất điện của các tiếp điểm trừ khi mối tương quan với trải nghiệm sử dụng được thiết lập lần đầu tiên.

Lớp phủ vàng thường được chỉ định cho các điểm tiếp xúc của đầu nối điện có thể tháo rời và các thiết bị khác. Chất điện cực là dạng vàng được sử dụng phổ biến nhất trong các điểm tiếp xúc, nhưng cũng được sử dụng làm lõi hoặc lớp mạ kim loại và làm mối hàn trên bề mặt tiếp xúc. Tính quý phái vốn có của vàng cho phép nó chống lại sự hình thành các màng oxit cách điện có thể ngăn cản hoạt động tiếp xúc đáng tin cậy.

Lớp phủ palladium đôi khi được chỉ định là chất thay thế vàng, cả dưới dạng chất điện cực và lớp phủ hoặc mạ kim loại trên các điểm tiếp xúc điện và các bề mặt thành phần điện tương tự. Phương pháp thử nghiệm này đặc biệt thích hợp để xác định độ xốp trong lớp phủ paladi vì môi trường phản ứng được sử dụng không tấn công paladi nếu tuân thủ các điều kiện thử nghiệm quy định. Ngược lại, lớp phủ paladi bị axit nitric và các tác nhân oxy hóa mạnh khác tấn công, do đó tiêu chuẩn ASTM B735-16 không thể được sử dụng để xác định độ xốp trong các lớp phủ đó.

Trong số rất nhiều nghiên cứu thử nghiệm, đo lường, phân tích và đánh giá được thực hiện cho các doanh nghiệp thuộc nhiều lĩnh vực khác nhau, tổ chức của chúng tôi, với đội ngũ chuyên gia được đào tạo và thiết bị công nghệ tiên tiến, đã phát triển "Phương pháp thử nghiệm tiêu chuẩn ASTM B799-95 về độ xốp trong lớp phủ vàng và palladium với axit sulfuric / hơi sulfur dioxide". Nó cũng cung cấp các dịch vụ thử nghiệm được xác định trong tiêu chuẩn ".