تقنية XRF (فلورية الأشعة السينية) هي تقنية تحليلية غير مدمرة تستخدم لتحديد التركيب العنصري للمواد. باستخدام هذه التقنية، يتم تحفيز محللات XRF بواسطة مصدر الأشعة السينية الأولي ويتم تحديد كيمياء العينة عن طريق قياس مضان الأشعة السينية المنبعثة من العينة. ينتج كل عنصر من العناصر الموجودة في العينة مجموعة من مضان الأشعة السينية المميزة التي تكون فريدة من نوعها لهذا العنصر المحدد. ولذلك، يعتبر التحليل الطيفي XRF تقنية ممتازة للتحليل النوعي والكمي لتركيب المواد.
تحتوي معظم الذرات على عدة مدارات إلكترونية. عندما تتسبب طاقة الأشعة السينية في انتقال الإلكترونات من وإلى هذه المدارات، تتكون قمم طيفية متفاوتة الشدة في تحليل الأشعة السينية الفلورية. تحدد طاقة القمة العنصر، بينما يشير ارتفاع القمة أو شدتها عمومًا إلى تركيزه.
تستخدم هذه الطريقة في مختلف الصناعات للأغراض التالية:
أثناء التحليل، يصدر المحلل شعاعًا موجهًا من الإشعاع عند تنشيط الأنبوب. ينبغي بذل جهود معقولة لإبقاء التعرض للإشعاع أقل بكثير من حدود الجرعة قدر الإمكان. ثلاثة عوامل تقلل من التعرض للإشعاع هي: الوقت والمسافة والتدريع.
من بين دراسات الاختبار والقياس والتحليل والتقييم العديدة التي تقدمها مؤسستنا للشركات في مختلف القطاعات، توفر منظمتنا أيضًا خدمات تحليل محتوى المواد باستخدام تقنية XRF، مع طاقم عمل مدرب وخبير ومعدات تكنولوجية متقدمة.
يمكنك أن تطلب منا ملء النموذج الخاص بنا للحصول على موعد ، أو للحصول على معلومات أكثر تفصيلاً أو لطلب تقييم.
