Standar SEMI F115, yang dikembangkan dalam kerangka program standar internasional yang disebut program International Semiconductor Equipment and Materials (SEMI), yang mencakup kegiatan yang bermanfaat bagi industri seperti semikonduktor, sirkuit terpadu, transistor, dioda, dan layar panel datar di seluruh dunia, mendefinisikan metode pengujian untuk mengidentifikasi unsur-unsur logam yang ada pada permukaan yang dibasahi dari sistem dan komponen pengiriman bahan kimia dengan kemurnian ultra tinggi (UHP).
Metode pengujian ini berlaku untuk sistem dan komponen pengiriman bahan kimia dengan kemurnian sangat tinggi. Contoh pengujian meliputi katup, regulator, filter, pengontrol aliran massa, perpipaan, rakitan las, dan rakitan segel muka. Metode pengujian ini juga dapat digunakan untuk mendeteksi kontaminasi dari lokasi perakitan atau manufaktur.
Standar tersebut di atas merinci metode ekstraksi dan pengukuran elemen logam yang dapat dilepas dengan air ultra murni pada permukaan yang dibasahi. Metode pengujian ini juga dapat digunakan untuk mengevaluasi efektivitas berbagai proses pencucian atau pembersihan.
Gas kemurnian ultra-tinggi banyak digunakan dalam industri semikonduktor. Kemurnian ultra-tinggi umumnya didefinisikan sebagai konsentrasi kurang dari 100 ppb untuk setiap molekul yang mudah menguap seperti tingkat pengotor atau kelembaban.
Saat mempersiapkan standar ini, standar SEMI berikut diambil sebagai referensi:
Perusahaan kami, di antara banyak studi pengujian, pengukuran, analisis, dan evaluasi yang disediakan untuk bisnis di berbagai sektor, dengan staf yang terlatih dan ahli serta peralatan teknologi canggih, layanan pengujian untuk penentuan elemen logam pada permukaan basah dengan kemurnian sangat tinggi sistem distribusi bahan kimia dan komponen dalam ruang lingkup standar SEMI F115.
Anda dapat meminta kami untuk mengisi formulir kami untuk mendapatkan janji, untuk mendapatkan informasi lebih lanjut atau untuk meminta evaluasi.
