Kaedah Ujian SEMI F110 untuk Cabaran Mono-Disperse Polystyrene Latex (PSL) Penapis Cecair

Kaedah Ujian SEMI F110 untuk Cabaran Mono-Disperse Polystyrene Latex (PSL) Penapis Cecair

Dibangunkan dalam rangka kerja program piawaian antarabangsa yang dipanggil Peralatan dan Bahan Semikonduktor Antarabangsa (SEMI), standard SEMI F110 menerangkan kaedah ujian untuk lateks polistirena mono-disperse (PSL) yang menentang penapis cecair. Piawaian yang disebutkan termasuk kaedah ujian pemuatan zarah lateks polistirena mono-disperse (PSL) untuk penapis cecair antara gred 50 dan 200 nm.

Kaedah Ujian SEMI F110 untuk Cabaran Mono-Disperse Polystyrene Latex (PSL) Penapis Cecair

Kaedah ujian ini merangkumi bidang berikut:

  • Keadaan ujian seperti cecair, kadar aliran, tekanan, kepekatan lateks polistirena (PSL), rawatan membran dan banyak lagi.
  • Jenis penapis yang dinilai.
  • Jenis polistirena lateks (PSL) (bahan rujukan).
  • Kaedah pemprosesan membran sebelum ujian untuk mengurangkan kesan penjerapan.
  • Penerangan keputusan ujian.

Sejak penemuan awalnya, zarah lateks telah digunakan dalam pelbagai jenis aplikasi, termasuk mikroskop elektron dan penentukuran kaunter sel, pengesanan pengagregatan pengantara antibodi, fagositosis (satu sel menelan sel atau zarah lain) ujian, dan lain-lain. Manik lateks yang boleh disimpan pada suhu bilik tetapi mesti dilindungi daripada pembekuan tidak dianggap steril.

Penapis air bertindak sebagai penghalang fizikal yang menghalang atau mengekalkan serpihan, dalam kes ini zarah lateks polistirena mono-disperse (PSL). Secara amnya, kelajuan aliran air bergantung pada saiz lompang dalam penghalang atau membran penapis. Penapis yang lebih halus dengan lompang terkecil bermakna aliran air yang lebih perlahan. Inovasi dalam reka bentuk dan penggunaan penapis ini merupakan faktor penting dalam usaha menghasilkan produk yang berkualiti tinggi.

Kaedah ujian yang diterangkan dalam piawaian ini berkesan dalam menapis zarah lateks polistirena, yang merupakan bahan yang mencabar. Zarah dikesan oleh penapis walaupun pada kepekatan rendah. Walaupun alat pengukur berbeza mengikut reka bentuknya, prinsip asasnya adalah sama.

Semasa menyediakan piawaian ini, piawaian SEMI berikut telah diambil sebagai rujukan:

  • Panduan air ultratulen SEMI F63 digunakan dalam pemprosesan semikonduktor

Di antara pelbagai ujian, pengukuran, analisis dan kajian penilaian yang disediakan untuk perniagaan dalam pelbagai sektor, organisasi kami juga menyediakan perkhidmatan ujian untuk menentukan perjuangan mono-disperse polystyrene lateks (PSL) penapis cecair dalam skop standard SEMI F110, dengan kakitangan terlatih dan pakar serta peralatan teknologi canggih. .

WhatsApp