Kaedah Ujian SEMI F76 untuk Penilaian Sumbangan Zarah daripada Komponen Sistem Gas yang Terdedah kepada Gas Menghakis

Kaedah Ujian SEMI F76 untuk Penilaian Sumbangan Zarah daripada Komponen Sistem Gas yang Terdedah kepada Gas Menghakis

Piawaian SEMI F76, yang dibangunkan di bawah program piawaian antarabangsa yang dipanggil Semiconductor Equipment and Materials International (SEMI) , mentakrifkan kaedah ujian untuk membandingkan komponen pemprosesan gas bagi potensi penjanaan zarah dalam perkhidmatan gas yang menghakis. Piawaian ini direka bentuk sebagai cara praktikal untuk menjana data prestasi bagi sekumpulan komponen yang akan dibandingkan dalam proses pemilihan. Kaedah ujian yang diterangkan boleh digunakan untuk injap, penapis zarah dan pengawal selia tekanan rendah.

Kaedah Ujian SEMI F76 untuk Penilaian Sumbangan Zarah daripada Komponen Sistem Gas yang Terdedah kepada Gas Menghakis

Piawaian SEMI menyediakan panduan kepada pengeluar tentang bahan kimia dan proses bahan yang terlibat dalam pembuatan cip semikonduktor dan peranti lain yang berkaitan. Terima kasih kepada piawaian ini, syarikat boleh memasuki pasaran antarabangsa, meminimumkan risiko reka bentuk dan meningkatkan produktiviti mereka.

Bagi industri semikonduktor, ketulenan tinggi, rintangan kimia, ketumpatan dan ketepatan adalah alat penting untuk pembangunan produk dan proses pembuatan. Bahan semikonduktor ialah bahan yang mendapat sifat konduktif dengan kesan kerja mekanikal yang dikenakan ke atasnya. Bahan-bahan ini, yang merupakan penebat dalam keadaan biasa, melepaskan beberapa elektronnya dan menjadi konduktif apabila kesan luaran seperti haba, cahaya, kesan magnet atau voltan elektrik digunakan. Apabila kesan luaran yang digunakan ini dikeluarkan, bahan-bahan ini kembali ke keadaan penebat semula. Terima kasih kepada sifat-sifat ini, semikonduktor digunakan secara meluas dalam bidang elektronik.

Piawaian SEMI juga berkaitan dengan sumber gas tersimpan / termampat dan sistem pengedaran. Ia juga merujuk secara amnya kepada gas aditif yang sangat toksik semasa langkah resapan suhu tinggi.

Semasa menyediakan piawaian ini, piawaian SEMI berikut telah diambil sebagai rujukan:

  • Spesifikasi untuk SEMI C59 Nitrogen
  • SEMI E66 Kaedah ujian untuk penentuan sumbangan zarah oleh pengawal aliran jisim
  • SEMI F43 titik guna penulen gas dan penapis gas serta kaedah ujian untuk penentuan bahan tambahan zarah

Organisasi kami, antara pelbagai ujian, pengukuran, analisis dan kajian penilaian yang disediakan untuk perniagaan dalam pelbagai sektor, juga menyediakan perkhidmatan ujian untuk penilaian sumbangan zarah daripada komponen sistem gas yang terdedah kepada gas menghakis dalam skop standard SEMI F76, dengan kakitangan terlatih dan pakar serta peralatan teknologi canggih.

WhatsApp