A norma SEMI F115, desenvolvida no âmbito de um programa internacional de normas denominado International Semiconductor Equipment and Materials (SEMI), que inclui atividades que beneficiam indústrias como semicondutores, circuitos integrados, transistores, diodos e telas planas em todo o mundo, define um método de teste para identificar elementos metálicos presentes nas superfícies molhadas de sistemas e componentes de administração de produtos químicos de ultra-alta pureza (UHP).
Este método de teste é aplicável a sistemas e componentes de entrega de produtos químicos de pureza ultra-alta. Exemplos de testes incluem válvulas, reguladores, filtros, controladores de fluxo de massa, tubulação, conjuntos de soldagem e conjuntos de vedação facial. Este método de teste também pode ser usado para detectar contaminação de uma montagem ou local de fabricação.
A norma mencionada detalha o método de extração e medição dos elementos metálicos removíveis com água ultrapura em superfícies molhadas. Este método de teste também pode ser usado para avaliar a eficácia de vários processos de lavagem ou limpeza.
Gases de altíssima pureza são amplamente usados na indústria de semicondutores. Pureza ultra-alta geralmente é definida como concentração inferior a 100 ppb para quaisquer moléculas voláteis, como nível de impureza ou umidade.
Ao preparar este padrão, os seguintes padrões SEMI foram tomados como referência:
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