
SEMI F115 標準是在國際半導體設備和材料 (SEMI) 計劃的框架內製定的,該計劃涵蓋的活動惠及全球半導體、集成電路、電晶體、二極管和平板顯示器等行業。該標準定義了一種測試方法,用於識別超高純度 (UHP) 化學輸送系統和組件的濕潤表面上存在的金屬元素。

該測試方法適用於超高純度化學品輸送系統和組件。 測試示例包括閥門、調節器、過濾器、質量流量控制器、管道、焊接組件和麵密封組件。 該測試方法還可用於檢測裝配或製造現場的污染。
本標準詳細介紹了用超純水在潤濕表面去除和測量可去除金屬元素的方法。 該測試方法還可用於評估各種洗滌或清潔過程的有效性。
超高純氣體廣泛應用於半導體行業。 超高純度通常定義為任何揮發性分子(例如雜質水平或水分)濃度低於 100 ppb。
在製定本標準時,參考了以下SEMI標準:
在為各行業企業提供的眾多測試、測量、分析和評估研究中,我們的組織還憑藉訓練有素的專家人員和先進的技術設備,在SEMI F115標準範圍內提供超高純化學品分配系統和組件濕表面金屬元素測定的測試服務。
