
Стандарт SEMI F115, разработанный в рамках международной программы стандартизации, называемой Международной программой по полупроводниковому оборудованию и материалам (SEMI), которая включает в себя мероприятия, приносящие пользу таким отраслям, как полупроводники, интегральные схемы, транзисторы, диоды и плоские дисплеи по всему миру, определяет метод испытаний для идентификации металлических элементов, присутствующих на смачиваемых поверхностях систем и компонентов подачи химических веществ сверхвысокой чистоты (UHP).

Этот метод испытаний применим к системам и компонентам доставки химикатов сверхвысокой чистоты. Примеры испытаний включают клапаны, регуляторы, фильтры, регуляторы массового расхода, трубопроводы, сварочные узлы и узлы торцевых уплотнений. Этот метод испытаний также можно использовать для обнаружения загрязнения со сборочной или производственной площадки.
Вышеупомянутый стандарт подробно описывает метод извлечения и измерения съемных металлических элементов с помощью сверхчистой воды на смачиваемых поверхностях. Этот метод испытаний также можно использовать для оценки эффективности различных процессов стирки или очистки.
Газы сверхвысокой чистоты широко используются в полупроводниковой промышленности. Сверхвысокая чистота обычно определяется как концентрация менее 100 частей на миллиард для любых летучих молекул, таких как уровень примесей или влажность.
При подготовке этого стандарта в качестве справочных использовались следующие стандарты SEMI:
Наша компания, среди многочисленных испытаний, измерений, анализа и оценочных исследований, которые она предоставляет для предприятий в различных секторах, с ее обученным и опытным персоналом и передовым технологическим оборудованием, услуги по тестированию для определения металлических элементов на влажных поверхностях сверхвысокой чистоты. химические системы распределения и компоненты в рамках стандарта SEMI F115. также дает.
