La norma SEMI F115, desarrollada en el marco de un programa de normas internacionales denominado Programa Internacional de Equipos y Materiales Semiconductores (SEMI), que incluye actividades que benefician a industrias como la de semiconductores, circuitos integrados, transistores, diodos y pantallas planas en todo el mundo, define un método de prueba para identificar elementos metálicos presentes en las superficies humedecidas de sistemas y componentes de suministro de productos químicos de ultra alta pureza (UHP).
Este método de prueba es aplicable a sistemas y componentes de administración de productos químicos de ultra alta pureza. Los ejemplos de pruebas incluyen válvulas, reguladores, filtros, controladores de flujo másico, tuberías, ensamblajes de soldadura y ensambles de sello frontal. Este método de prueba también se puede utilizar para detectar contaminación de un sitio de ensamblaje o fabricación.
La mencionada norma detalla el método de extracción y medición de los elementos metálicos removibles con agua ultrapura sobre superficies mojadas. Este método de prueba también se puede utilizar para evaluar la eficacia de varios procesos de lavado o limpieza.
Los gases de ultra alta pureza se utilizan ampliamente en la industria de los semiconductores. La pureza ultra alta se define generalmente como una concentración de menos de 100 ppb para cualquier molécula volátil, como el nivel de impurezas o la humedad.
En la elaboración de esta norma, se tomaron como referencia las siguientes normas SEMI:
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