SEMI F115 Testverfahren zur Bestimmung von metallischen Elementen in nassen Oberflächen von ultrahochreinen Chemikalienabgabesystemen und -komponenten

SEMI F115 Testverfahren zur Bestimmung von metallischen Elementen in nassen Oberflächen von ultrahochreinen Chemikalienabgabesystemen und -komponenten

Der SEMI F115-Standard, der im Rahmen eines internationalen Normungsprogramms namens International Semiconductor Equipment and Materials (SEMI) entwickelt wurde und Aktivitäten umfasst, die Branchen wie Halbleiter, integrierte Schaltungen, Transistoren, Dioden und Flachbildschirme weltweit zugutekommen, definiert ein Testverfahren zur Identifizierung metallischer Elemente, die auf den benetzten Oberflächen von Chemikaliendosiersystemen und -komponenten mit ultrahoher Reinheit (UHP) vorhanden sind.

SEMI F115 Testverfahren zur Bestimmung von metallischen Elementen in nassen Oberflächen von ultrahochreinen Chemikalienabgabesystemen und -komponenten

Diese Testmethode ist auf hochreine chemische Abgabesysteme und Komponenten anwendbar. Zu den Testproben gehören Ventile, Regler, Filter, Massendurchflussregler, Rohrleitungen, Schweißbaugruppen und Gleitringdichtungsbaugruppen. Diese Testmethode kann auch zur Erkennung von Verunreinigungen aus einer Montage- oder Fertigungsstätte verwendet werden.

Diese Norm beschreibt die Methode zur Entfernung und Messung der entfernbaren Metallelemente mit Reinstwasser auf benetzten Oberflächen. Mit dieser Testmethode kann auch die Wirksamkeit verschiedener Wasch- oder Reinigungsverfahren bewertet werden.

Ultrahochreine Gase werden in der Halbleiterindustrie häufig verwendet. Ultrahohe Reinheit wird normalerweise als eine Konzentration von weniger als 100 ppb für flüchtige Moleküle wie Verunreinigungsgrad oder Feuchtigkeit definiert.

Bei der Erstellung dieses Standards wurden die folgenden SEMI-Standards als Referenz verwendet:

  • SEMI E49.2 Leitfaden zur Qualifizierung von Polymergruppen, die für flüssige chemische Systeme in Halbleitergeräten verwendet werden
  • SEMI E49.8 Leitfaden für hochreine und ultrahochreine Gasverteilungssysteme in Halbleiterfertigungsanlagen
  • SEMI F20-Spezifikation für Stangen, Schmiedeteile, extrudierte Formen, Platten und Rohre aus 316L-Edelstahl für Komponenten, die in allgemeinen, hochreinen und ultrahochreinen Halbleiterfertigungsanwendungen verwendet werden
  • SEMI F63 Reinstwasserführung für die Halbleiterverarbeitung

Unsere Organisation bietet Testdienstleistungen für die Bestimmung metallischer Elemente auf den nassen Oberflächen von Verteilungssystemen und Komponenten für hochreine Chemikalien im Rahmen des SEMI F115-Standards an und verfügt über geschultes und fachkundiges Personal sowie fortschrittliche technologische Ausrüstung und zahlreiche Test- und Messsysteme Es bietet auch Analyse- und Bewertungsstudien für Unternehmen verschiedener Branchen an.

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