
Norma SEMI F115, opracowana w ramach międzynarodowego programu normalizacyjnego o nazwie International Semiconductor Equipment and Materials (SEMI), obejmującego działania przynoszące korzyści branżom takim jak półprzewodniki, układy scalone, tranzystory, diody i wyświetlacze płaskie na całym świecie, definiuje metodę testową służącą do identyfikacji pierwiastków metalicznych obecnych na zwilżanych powierzchniach systemów i komponentów dostarczających substancje chemiczne o ultra wysokiej czystości (UHP).

Ta metoda badawcza ma zastosowanie do systemów i komponentów dostarczania chemikaliów o ultrawysokiej czystości. Przykłady testów obejmują zawory, regulatory, filtry, regulatory przepływu masowego, rurociągi, zespoły spawalnicze i zespoły uszczelnień twarzy. Tę metodę testową można również wykorzystać do wykrycia zanieczyszczenia z miejsca montażu lub produkcji.
Niniejsza norma szczegółowo opisuje metodę usuwania i pomiaru usuwalnych elementów metalowych za pomocą ultraczystej wody na zwilżonych powierzchniach. Ta metoda testowa może być również wykorzystana do oceny skuteczności różnych procesów prania lub czyszczenia.
Gazy o bardzo wysokiej czystości są szeroko stosowane w przemyśle półprzewodnikowym. Ultrawysoka czystość jest ogólnie definiowana jako stężenie poniżej 100 ppb dla dowolnych lotnych cząsteczek, takich jak poziom zanieczyszczeń lub wilgoć.
Podczas przygotowywania niniejszego standardu jako odniesienie przyjęto następujące standardy SEMI:
Nasza organizacja świadczy usługi badawcze w zakresie oznaczania pierwiastków metalicznych na mokrych powierzchniach systemów dystrybucji chemikaliów o bardzo wysokiej czystości i komponentów w zakresie standardu SEMI F115, dysponując wyszkolonym i doświadczonym personelem oraz zaawansowanym sprzętem technologicznym, wśród licznych testów, pomiarów , analizy i badania ewaluacyjne, które zapewnia dla przedsiębiorstw z różnych sektorów.
