
Opracowany w ramach międzynarodowego programu standardów o nazwie International Semiconductor Equipment and Materials (SEMI), który obejmuje działania na rzecz takich branż, jak półprzewodniki, układy scalone, tranzystory, diody i płaskie wyświetlacze na całym świecie, standard SEMI F80 jest technicznie zatwierdzony przez Globalny Komitet Techniczny ds. Gazów jest standardem. Niniejsza norma opisuje metodę testową służącą do określania wymiany gazowej/skuteczności czyszczenia systemu dystrybucji gazu. Norma ta obejmuje zarówno konwencjonalne metalowe uszczelnienia czołowe, jak i systemy dystrybucji gazu montowane na powierzchni. Ta metoda testowa jest odpowiednia dla wszystkich systemów dystrybucji gazu o wysokiej czystości stosowanych w zakładach produkcji półprzewodników i porównywalnych obszarach badawczo-rozwojowych.

Ważne jest, aby przed wprowadzeniem gazu procesowego usunąć otaczające powietrze ze wszystkich części systemu rurociągów gazowych o wysokiej czystości. Jest to konieczne z dwóch powodów:
Konieczne jest usunięcie gazu procesowego z dowolnej części systemu rurociągów przed wystawieniem na działanie powietrza z otoczenia. Przyczyny tego można wymienić w następujący sposób:
Spośród licznych testów, pomiarów, analiz i ocen, jakie nasza organizacja świadczy na rzecz przedsiębiorstw z różnych sektorów, oferujemy również usługi testowe mające na celu określenie wydajności wymiany gazowej/odpływu gazu w systemach dystrybucji gazu w ramach normy SEMI F80, dzięki wykwalifikowanej i doświadczonej kadrze oraz zaawansowanemu technologicznie sprzętowi.
